XXXIX Seminarium dla Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych w Cedzynie

Pozwalam sobie poinformować, że w dniach 21-25 września 2020 r. w Cedzynie koło Kielc Politechnika Świętokrzyska w Kielcach organizuje XXXIX Seminarium dla Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych.

Do udziału w tym wydarzeniu zostali zaproszeni rzecznicy patentowi, a także pracownicy Uczelni zajmujący się tematyką wynalazczości i transferu technologii oraz pracownicy prowadzący zajęcia dydaktyczne dla studentów z zakresu własności intelektualnej.

Proszę przyjąć zapewnienie, że w trakcie trwania Seminarium zostaną zachowane wszystkie najwyższe standardy niezbędne dla bezpieczeństwa epidemiologicznego (w tym dystans społeczny podczas obrad oraz posiłków, maseczki i przyłbice, dezynfekcja pomieszczeń).

Pragnę również poinformować, że program tegorocznego Seminarium obejmuje problematykę zw. ze stosowaniem w praktyce zmian dotyczących wdrożenia i stosowania nowych regulacji wynikających z nowelizacji ustawy Prawo własności przemysłowej, dotyczących wynalazków i wzorów użytkowych oraz ustanowienia z dniem 1 lipca 2020 roku wyspecjalizowanych sądów ds. własności intelektualnej.

Ponadto prezentowane i dyskutowane będą zagadnienia związane z ochroną sztucznej inteligencji a także z polubownym rozstrzyganiem sporów, systemem mediacji i arbitrażu w odniesieniu do własności intelektualnej oraz domen internetowych. Program obejmuje również tematykę zw. z działalnością badawczo-rozwojową oraz problematykę znaków towarowych i wzorów przemysłowych jak również prawa autorskiego, a także postępowania likwidacyjnego, upadłościowego i restrukturyzacyjnego związanego z prawami własności przemysłowej.

Poszczególne tematy prezentowane będą przez wybitnych specjalistów reprezentujących ośrodki naukowe i inne wyspecjalizowane instytucje zajmujące się własnością intelektualną, w tym: Sądu ds. Własności Intelektualnej, Krajowej Izby Gospodarczej, Sądu Polubownego ds. domen internetowych, ekspertów Urzędu Patentowego RP, a także online Światowej Organizacji Własności Intelektualnej i Urzędu Unii Europejskiej ds. Własności Intelektualnej.

Uprzejmie informuję, że Seminarium współorganizowane jest przez Radę Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych, Akademię Górniczo-Hutniczą, Politechnikę Krakowską, Politechnikę Wrocławską, Politechnikę Łódzką, Uniwersytet Śląski, Staropolską Izbę Przemysłowo-Handlową, przy merytorycznym udziale Urzędu Patentowego RP.

Koszt udziału w Seminarium obejmujący wyżywienie i zakwaterowanie w pokoju dwuosobowym (a za dopłatą w pokoju jednoosobowym) kształtuje się na dotychczasowym poziomie – 2100 zł od osoby dla pracowników Uczelni i Instytutów Naukowo-Badawczych (dla których uczestnictwo w Seminarium pokryte będzie w 100% ze środków publicznych - bezwzględnie wymagane jest złożenie oświadczenia wg załącznika) a dla pozostałych uczestników 2100 zł +23% VAT. Wpłatę należy wnieść na konto współorganizatora Seminarium – Staropolskiej Izby Przemysłowo-Handlowej: ul. Sienkiewicza 53, 25-002 Kielce, NIP: 657-046-18-01, Nr konta: 24 8493 0004 0000 0029 1378 0002 z zaznaczeniem: Seminarium w Cedzynie. Koszty przejazdu rozlicza się w jednostce delegującej.

Zgłoszenie udziału proszę przesłać do dnia 7 września br. na adres rzecznik-cedzyna@siph.com.pl, telefon kontaktowy w Staropolskiej Izbie Przemysłowo-Handlowej 41 344 43 42 oraz w Centrum Ochrony Własności Intelektualnej PŚk 41 342 43 58.

Pragnę poinformować, że dla zorganizowania Seminarium niezbędny jest udział minimum 60.uczestników. W przypadku zaistnienia niekorzystnego zjawiska zaostrzenia się sytuacji zw. z pandemią COVID-19, Seminarium odbędzie się w innym uzgodnionym terminie lub on-line, a dokonane wpłaty za udział w Seminarium będą zwrócone.

Łączę wyrazy szacunku i serdeczne pozdrowienia

Pełnomocnik Rektora ds. Seminarium w Cedzynie

dr Alicja Adamczak

Aktualizacja informacji dotyczącej XXXIX Seminarium dla Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych w Cedzynie

Program XXXIX Seminarium dla Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych w Cedzynie

Karta zgłoszenia - Cedzyna 2020

Oświadczenie o zw. z VAT SIPH 2020